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轮廓
中文名:尹志尧
出生地:北京
毕业院校:中国科学技术大学
人物传记
1962年,他被HKUST大学化学物理系录取。因为文革,我直到1968年春天才毕业。
1968年至1971年在兰州炼油厂工作。
1973年调入中国科学院兰州物理化学研究所。
1978年至1980年在北京大学化学系攻读硕士学位。
1980年,在美国一些亲戚的帮助下,我来到加州大学洛杉矶分校攻读博士学位。三年半拿到物理化学博士学位。
1984年,我在硅谷度过了余生。我在英特尔公司的中央技术开发部开始做等离子蚀刻。
1986年,他调到LAM Institute,开始担任高级工程师,后来成为技术开发经理。其中尹志耀负责彩虹等离子刻蚀设备的研发。林已经成为这一领域的领导者之一,推出了一些非常好的产品。
1991年,尹志尧来到应用材料公司,负责同领域的研发工作。他在美国和国外获得了60多项专利,还有一些正在等待批准。现在尹志耀研发或参与的产品在该领域约占全球的50%。曾任应用材料应用材料公司副总裁,负责等离子刻蚀部门业务。此外,他还帮助建立了硅谷中国工程师协会,并担任了前两届主席。
2004年,他和几个志同道合的美国硅谷合伙人回到上海,创办了AMEC,他本人担任董事长兼总裁。
荣耀
2012年,尹志尧获得上海白玉兰纪念奖。